hth华体会官网入口:苏大维格：维普半导体是国内极少数在半导体光掩模缺点查验测验设备范畴已完成规模化量产的企业

来源：hth华体会官网入口    发布时间：2026-05-19 09:45:13

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  光掩模缺点查验测验设备范畴已完成规模化量产的企业，设备产品已完成了对下流首要掩膜版制作商（包含晶圆厂自建配套工厂和独立第三方掩模厂商）的掩盖。公司在高端智能配备范畴研制、出产和出售各类激光直写光刻机和纳米压印光刻机，其间以激光直写光刻机为主，激光直写光刻机是用来出产制作光掩模的中心设备之一。公司一直致力于活跃拓宽激光直写光刻机在半导体光掩模制作范畴的量产使用和国产代替，潜在客户集体和维普半导体现有客户体系根本堆叠，收买维普半导体，使用其现有客户资源，有利于削减公司的客户开发本钱和产品验证周期。此外，公司在光学体系、精细运动操控渠道上有较深的技能堆集，维普半导体则在中心算法、软件体系、电气电控体系等方面有技能优势和量产经历。收买后，两边优势互补，可进行深度的技能与资源整合，逐步增强两边技能实力，提高产品的迭代速度与设备的竞争力。